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半導体製造プロセス合格率をアップする超世代のろ過解決方案--Cobetter 2nm HAPES ろ過技術”
  • 2017-06-24
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2017 Semicon China展示会にcobetterは最新最先端の技術成果ーー2nm HAPESカートリッジを披露した。これは国内のろ過業界では半導体のろ過精度が初めて“0.05μm”から“2nm”にアップ
したものである。この技術を展示次第、業界で高い関心が寄せられて、协力を行う意向を多く達成した。


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Cobetterの皆様が半導体製造プロセスの科学者及び顧客のエンドユーザと共に、最新の半導体製造プロセス要求 14nmにより、最新のろ過技術 2nm HAPES を開発した。


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現在、先端半導体製造に対して微細な汚染物の洗浄基準が厳しいため、外界の微細な汚染源を排除することが必要です。半導体製造の洗浄効果がチップの品質を決定できます。

2nm HAPESカートリッジ技術は、半導体製造中の洗浄プロセスの効率を高め、半導体製造プロセスの合格率と産出率を大幅に上げて、生産中の化学品洗剤使用量を減少出来る。最少のコストでお客様に最大の生産効率を与えた。


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Let there be yield!cobetterの皆様は半導体ろ過業界で引き続き努力しています。詳しい製品情報はcobetter微電子部にお問い合わせください。


電話番号:86-571-87704301

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